Utilizando tecnología de deposición de plasma de arco catódico. La deposición con plasma por arco catódico es una tecnología de deposición de película delgada relativamente nueva que es similar en muchos aspectos al revestimiento iónico. Sus ventajas: alta tasa de ionización en el flujo de partículas emitidas y estos iones ionizados tienen alta energía cinética (40-100eV).
Muchas de las ventajas de la deposición por haz de iones, como una mejor adhesión, una mayor densidad de estados y una alta reactividad a la formación de películas compuestas, se reflejan en la deposición por plasma de arco catódico. La deposición con plasma por arco catódico tiene sus propias ventajas únicas, como la posibilidad de depositarse sobre sustratos de formas más complejas, con una alta tasa de deposición, buena uniformidad de recubrimiento, baja temperatura del sustrato y fácil preparación de compuestos o aleaciones con proporciones químicas ideales. .
El material del cátodo se evapora mediante el proceso de evaporación debido a la alta densidad de corriente, y el evaporado resultante está compuesto de electrones, iones, átomos de la fase gaseosa central y partículas. En el punto del arco catódico, el material se ioniza casi inmediatamente. Los iones se emiten en una dirección casi perpendicular a la superficie del cátodo. Cuando los iones de cromo de alta energía golpean el nitrógeno, inmediatamente sufrirán una reacción química y se volverán gaseosos. Moléculas de nitruro de cromo.
